低壓等離子噴涂作為一種熱噴涂技術，與傳統的大氣等離子體噴涂技術和氣相物理沉積相比，可以制備更純、更致密、更高強度的涂層。主要介紹了低壓等離子體噴涂的原理、分類和特點，回顧了低壓等離子體噴涂的生產和發展過程，并與等離子體噴涂、超低壓等離子體噴涂和等離子體噴涂沉積進行了比較，分析了其在涂層制備方面的獨特優勢。進一步描述了低壓等離子體噴涂技術在制備熱屏障涂層、燃料電池、太陽能、半導體等領域的國內外研究和應用，指出低壓等離子體噴涂技術的未來發展方向是深入研究等離子體噴涂火焰流和材料基板的作用機理，以及其他前沿技術。
低壓等離子體噴涂技術已廣泛應用于航空航天、鋼鐵、船舶、石化等領域，行業投入了大量的人力和物力資源來開發新的功能涂層。未來的研究將集中在以下幾個方面。
1)進一步研究等離子噴涂焰流形成機制、焰流與噴涂材料的作用機制、噴涂材料與基材的結合機制等規律。
2)低壓等離子體噴涂與其他技術復合，如低壓等離子體噴涂和懸浮等離子體噴涂聯動制備多層氧化鋁涂層；采用低壓等離子體噴涂和激光再熔，改善陶瓷與金屬的結合，實現涂層與基體的冶金結合。
3)超低壓等離子噴涂技術的發展可以進一步降低動態壓力，使噴涂火花流量和速度更加均勻，使其在半導體、超導涂層、燃料電池和太陽能電池的制備中得到更廣泛的應用。
