等離子噴涂是采用壓縮電弧作熱源,連續的工作氣體(氟氣、氮氣、氫氣等)穿過壓縮電弧而電離,成為高溫高速的等離子焰流,噴涂材料通過等離子焰流加熱到熔化或半熔化狀態,并隨同等離子焰流以高速噴射并沉積在經過粗化的潔凈基材表面上,經淬冷凝固后形成噴涂層。其中壓縮電弧由普通電弧經機械壓縮、熱壓縮及自磁壓縮而產生。
等離子噴涂技術的特點
與其它熱噴涂相比等離子噴涂具有以下特點:
(1)可噴涂材料極為廣泛。由于等離子噴涂時的焰流溫度很高,其中心溫度可達32000K,幾乎能熔化所有高熔點和高硬度的材料,所以很適合陶瓷與高熔點物質的噴涂,這是其它噴涂方法所不能實現的;
(2)涂層致密,結合強度高。等離子噴涂能使粉末獲得較大的動能,且粉末溫度又高,所以噴涂獲得的涂層致密度高,結合強度高;
(3)涂層厚度可以按需要控制,誤差可控制到0.025mm;
(4)對工件的熱影響小。等離子噴涂對工件的熱輸入量小,噴涂后基材金相組織不會發生變化,工件幾乎不產生變形。在提高耐磨蝕、抗氧化、耐熱性能的同時,不影響機體原來的機械性能,同時可對精密工件進行噴涂;
(5)噴涂效率高。采用高能等離子設備時,粉末的沉積效率可達8kg/h;
(6)噴涂材料與被噴涂材料可以自由選擇和組合。
等離子噴涂陶瓷涂層分類
1、氧化物陶瓷涂層
氧化物陶瓷具有較高的熔點,突出的機械性能和高溫化學穩定性,可用來提高基體材料的強度、硬度、耐磨性或生物性能。常用作涂層增強的氧化物陶瓷有:Al2O3、ZrO2、Cr2O3、SiO2、TiO2、MgO等。
2、碳化物陶瓷涂層
碳化物陶瓷的熔點極高,一般都在3000oC以上,因此抗氧化和高溫性能都很出色,多被用作刀具等超硬材料。常用作涂層增強的碳化物陶瓷有:TiC、WC、ZrC、SiC等。
3、氮化物陶瓷涂層
氮化物陶瓷抗氧化性突出,還具有很好的介電性能,但燒結工藝較其他陶瓷復雜。常用作涂層增強的氮化物陶瓷有:Si3N4、TiN、BN、AlN等。
4、其他陶瓷涂層
除了以上敘述的陶瓷種類,常被用作陶瓷涂層增強相的還有硼化物陶瓷、硅化物陶瓷和一些復相陶瓷等。
近幾年隨著科學不斷進步和發展。因此,人們提出了節約資源、保護環境的更高要求,對材料性能的要求也是越來越高。
陶瓷材料具有特征如下。
1、優異性能:熱膨脹系數小,熱導率低,摩擦系數小。
2、無延展性,硬度高,熔點高,絕緣性能好,保溫性能好。但是,陶瓷材料的塑性變形能力較弱。材料中的玻璃相和氣是導致疲勞性能降低的主要原因。
3、孔洞的產生上述陶瓷材料的性能和價格都比較貴。由于制備難度較大,使得陶瓷材料的應用受到一定的限制。
為了結合市場需求,大家會采用等離子噴涂工藝,可以解決等離子體噴涂陶瓷過程中所遇到的問題。運用在金屬基體上采用等離子噴涂制備陶瓷涂層,使金屬材料具有較好的機械性能和耐高溫性能,耐磨性和耐蝕性的結合,使它能滿足材料在工作中的要求。